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英特爾3D結(jié)構(gòu)晶體管的原理
文章來(lái)源: 更新時(shí)間:2011/5/22 11:17:00
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英特爾宣布,22nm三柵極(Tri-Gate)的革命性3D晶體管將批量生產(chǎn),還將在2011年底前批量投產(chǎn)研發(fā)代號(hào)為Ivy Bridge的22nm微處理器芯片,首先用于筆記本電腦、服務(wù)器和臺(tái)式機(jī)。其革命性體現(xiàn)在把已延續(xù)了50多年的2D平面晶體管結(jié)構(gòu)突破到了3D結(jié)構(gòu)且可批量生產(chǎn),這堪稱一個(gè)里程碑式的標(biāo)志。目前,除了英特爾之外,還沒(méi)有其他任何一家廠商可以做到這一點(diǎn)。

雖然英特爾沒(méi)有公布3D結(jié)構(gòu)晶體管用于低功耗凌動(dòng)處理器的具體時(shí)間表,但英特爾大連芯片廠總經(jīng)理兼技術(shù)與制造事業(yè)部亞洲區(qū)發(fā)言人Kirby Jefferson表示:“會(huì)很快。”由此可以預(yù)期,一旦采用3D三柵極晶體管的凌動(dòng)處理器進(jìn)入市場(chǎng),在低功耗、低成本的嵌入式領(lǐng)域必將掀起一場(chǎng)滔天巨浪。屆時(shí),I-A(英特爾與ARM)大戰(zhàn)將正式進(jìn)入貼身白熱化的程度,ARM將面臨來(lái)自22nm工藝3D三柵極晶體管技術(shù)的強(qiáng)勁挑戰(zhàn)。

隨著英特爾3D三柵極晶體管消息的發(fā)布,ARM股價(jià)應(yīng)聲狂跌了7.3%,而英特爾股價(jià)則趁勢(shì)上漲了1.95%。不管未來(lái)I-A戰(zhàn)役雙方勝負(fù)結(jié)果如何,可以肯定的是,消費(fèi)者將會(huì)享受到價(jià)格更低、功耗更小、性能更高的嵌入式消費(fèi)電子產(chǎn)品帶來(lái)的愉悅體驗(yàn)。

下面來(lái)看看3D三柵極晶體管的技術(shù)特性。在低電壓時(shí),22nm工藝的3D三柵極晶體管比此前的32nm平面晶體管柵極延遲,即
開(kāi)關(guān)速度快了37%,功耗降低了50%。

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圖1 英特爾3D三柵極晶體管結(jié)構(gòu)圖

那么上述特性是如何實(shí)現(xiàn)的呢?傳統(tǒng)扁平的2D平面晶體管只在頂部有一個(gè)柵極,英特爾的研發(fā)人員將2D平面柵極“拔”高成了相當(dāng)薄的、從硅基體垂直豎起的3D硅鰭狀物(見(jiàn)圖1)。這樣,在鰭狀物的兩側(cè)和頂部各有一個(gè)柵極,形成導(dǎo)電通道,增加了反型層面積,提高了次臨界斜率,降低了漏電流和臨界電壓,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)電流控制。使晶體管在“開(kāi)”的狀態(tài)下讓盡可能多的電流通過(guò),而在“關(guān)”的狀態(tài)下盡可能讓電流接近零,降低了功耗;同時(shí)還能在兩種狀態(tài)之間迅速切換,開(kāi)關(guān)速度快就可以提高晶體管性能。這種情況下,制造成本只增加了2-3%。英特爾3D三柵極晶體管與32nm平面晶體管對(duì)比、3D三柵極晶體管與2D平面晶體管的通道電流與柵極電壓特性曲線比較分別如圖2和圖3所示。

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圖2 英特爾22nm 3D三柵極晶體管與32nm平面晶體管對(duì)比

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圖3 英特爾3D三柵極晶體管與傳統(tǒng)2D平面晶體管的通道電流與柵極電壓特性曲線比較

另外,由于Bulk 晶體管、部分耗盡型SOI(PDSOI)晶體管屬于未完全耗盡型晶體管,而全耗盡型SOI(FDSOI)需要昂貴的超薄SOI 晶圓,整體制程成本增加了大約 10%。因此,英特爾沒(méi)有采用上述技術(shù)。

3D三柵極晶體管結(jié)構(gòu)還提供了一種管理晶體管密度的方式,由于這些鰭狀物本身是垂直的,晶體管也能更緊密地封裝,這是摩爾定律追求的技術(shù)和經(jīng)濟(jì)效益的關(guān)鍵所在。未來(lái),設(shè)計(jì)師還可以不斷增加鰭狀物的高度,從而獲得更高的性能和能效。

據(jù)悉,英特爾專門(mén)在全球同步的美國(guó)發(fā)布會(huì)上展示了22nm工藝的Ivy Bridge微處理器,可用于筆記本電腦、服務(wù)器和臺(tái)式機(jī);贗vy Bridge的酷睿系列處理器將是首批采用3D三柵極晶體管進(jìn)行批量生產(chǎn)的芯片。

 
 
 
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