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從Si到SiC,我們該如何絲滑升級?
文章來源:永阜康科技 更新時間:2024/8/19 10:13:00
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在功率電子領域,一場技術(shù)變革正在發(fā)生:在越來越多的應用中,GaN和SiC等第三代寬禁帶半導體器件正在逐步替代傳統(tǒng)的硅(Si)基器件,扮演越來越重要的角色。在需要較高電壓和功率的電動車、白色家電、通信基礎設施、可再生能源、數(shù)據(jù)中心等領域,SiC更是表現(xiàn)出強勁的實力。

SiC器件的性能優(yōu)勢

從下圖可以看出,與Si材料相比,SiC有兩個突出優(yōu)勢:一是SiC的高禁帶寬度(是Si的3倍)帶來了更高的擊穿電壓、溫度和功率等級;二是SiC具有更高的熱導率,有利于功率器件熱性能的提升,以支持更高電流密度的應用。


圖1:SiC與Si材料特性比較
(圖源:Qorvo)

基于這樣的性能優(yōu)勢,用SiC打造的開關(guān)器件(如MOSFET)與硅基器件相比,自然也是具有諸多優(yōu)勢:

• SiC擊穿電壓更高,這意味著可以更輕薄的器件來支持更高的電壓。
• SiC器件具有較小的裸片尺寸和較低的寄生電容,以及更低的導通電阻,這可以帶來更低的開關(guān)損耗,提供更高的效率。
• 在給定的電壓和電阻等級,SiC功率器件能夠在更高的開關(guān)頻率下運行,因此允許采用體積更小的外圍無源元件,從而減小整個系統(tǒng)的尺寸及成本。
• 得益于出色的熱性能,SiC器件能夠在更高的環(huán)境溫度下正常工作,有助于簡化散熱系統(tǒng)設計。

簡而言之,SiC功率器件具有高電壓阻斷能力、低導通損耗、低開關(guān)損耗和高導熱性,因此可以為功率電子應用提供更高的效率、更出色的散熱性能,以及更高的功率密度,幫助用戶突破硅基器件的性能天花板。

也正因為此,眾多功率電子行業(yè)的“玩家”都在積極探索采用SiC技術(shù)替代硅基工藝,開發(fā)一系列功率器件,如BJT、JFET、MOSFET和IGBT等。不過,SiC商用器件的開發(fā)畢竟是一個全新的課題,想要實現(xiàn)從Si到SiC技術(shù)的絲滑升級,還需要做大量的功課。

實現(xiàn)這一技術(shù)迭代的關(guān)鍵著力點主要有兩個方面:一個是降低成本,包括SiC器件自身的成本,以及應用開發(fā)中的配套成本(如柵極驅(qū)動器);另一個方面,就是要根據(jù)目標應用,充分發(fā)揮出SiC的優(yōu)勢特性,開發(fā)出差異化的產(chǎn)品,為開發(fā)者提供更大的選擇空間。

通往SiC技術(shù)的新路徑

目前,在向SiC技術(shù)邁進的過程中,SiC MOSFET是很多廠商的“必選項”,這是因為與Si MOSFET相比,其具有耐壓高、導通電阻低、開關(guān)頻率高等突出優(yōu)勢,且應用范圍非常廣泛。

不過,如上文所述,SiC MOSFET并不是“從Si向SiC絲滑升級”的唯一選項,Qorvo就選擇了從SiC JFET入手,探索出一條與眾不同的新路徑。

眾所周知,JFET是一種常開型晶體管,是利用柵極PN結(jié)耗盡層實現(xiàn)開關(guān)控制,同時正常狀態(tài)下單極性導電,與MOSFET相比,此類器件具有良好的高頻特性,且由于不需要柵氧層,其可靠性更優(yōu),導通電阻也會更小。

但是開發(fā)SiC JFET時面臨著一個挑戰(zhàn):相較于SiC MOSFET,常開型的SiC JFET在器件阻斷時需要施加較大的負向偏置,以使得溝道區(qū)域完全夾斷,因此無法與現(xiàn)有功率器件(如MOSFET、IGBT等)的驅(qū)動電路兼容,這無疑會增加SiC JFET器件應用開發(fā)的難度。

為此,Qorvo采用了一種巧妙的方法——基于獨特的“共源共柵結(jié)構(gòu)”電路配置,將一個常開型SiC JFET器件與一個硅基MOSFET垂直級聯(lián)、共同封裝,形成一個集成的常關(guān)型SiC FET器件,使得器件的驅(qū)動可以與硅基MOSFET / IGBT器件兼容,很好的解決了這一SiC技術(shù)升級中的關(guān)鍵問題。


圖2:Qorvo SiC FET器件結(jié)構(gòu)框圖
(圖源:Qorvo)

從圖3中,我們可以進一步了解Qorvo SiC FET與SiC MOSFET相比的差異化優(yōu)勢。

首先,Qorvo的SiC JFET中沒有SiC MOSFET的柵極氧化層,進而消除了溝道電阻,讓裸片尺寸更為緊湊,這意味著對于給定的芯片尺寸,Qorvo SiC FET可提供更低的導通電阻(RDS(ON));也就是說,在相同的導通電阻條件下,Qorvo SiC FET所需的SiC裸片尺寸更小,這使得該器件可以采用TOLL和D2PAK等較小的封裝形式,進一步強化SiC器件小型化的優(yōu)勢。

此外,Qorvo的SiC FET與SiC MOSFET相比,還具有更低的輸出電容,這使得其能夠在低負載電流下以更快的開關(guān)速度工作,因此電容充電延遲時間更短。由此帶來的好處是,減少了對電感器和電容器等較大體積無源元件的需求,使得終端設備能夠?qū)崿F(xiàn)更小的體積、更輕的重量、更低的成本,并獲得更高的功率密度。


圖3:SiC MOSFET與Qorvo SiC FET的比較
(圖源:Qorvo)

總結(jié)一下,Qorvo SiC FET既具有SiC的性能優(yōu)勢,又通過獨特的“Si MOSFET + SiC JFET”的垂直級聯(lián)架構(gòu),構(gòu)成了一款更“高能”的器件。這樣的器件,對于功率應用的價值體現(xiàn)在:

• 可采用標準硅柵極驅(qū)動器,這使得從Si到SiC的技術(shù)過渡更加順暢,也為工程師提供了更大的設計靈活性。
• 相同芯片面積下,具有更低的漏-源導通電阻 RDS(ON),可進一步提升系統(tǒng)效率。
• 更低的電容允許更快的開關(guān)速度、更高的工作頻率,減小了對大體積無源元件的需求。
• 可提供更高電壓等級 (1,200V或更高),而與同級別硅基IGBT相比又具有更高的工作頻率。

豐富的SiC FET產(chǎn)品組合

UF3C系列是Qorvo高性能SiC FET中的代表產(chǎn)品,具有超低柵極電荷,非常適合開關(guān)感性負載和需要標準柵極驅(qū)動的應用。由于可以兼容標準柵極驅(qū)動器,因此UF3C系列SiC FET可真正實現(xiàn)對硅基IGBT、FET、MOSFET或超結(jié)器件的“絲滑平替”。

該系列SiC FET提供650V、1,200V和1,700V多種耐壓版本,以及D2PAK-3、D2PAK-7、D2PAK-7L、TO-247-3L、TO-247-4L和TO-220-3L等封裝選項,可廣泛應用于電動汽車充電、光伏逆變器、開關(guān)模式電源、功率因數(shù)校正模塊、電機驅(qū)動器和感應加熱等功率電子系統(tǒng)。


圖4:UF3C高性能SiC FET
(圖源:Qorvo)

值得一提的是,Qorvo不斷發(fā)展這種共源共柵結(jié)構(gòu)SiC FET的產(chǎn)品組合,既包括采用平面工藝的第3代產(chǎn)品(如UF3C),還包括性能更為出色的基于溝槽工藝的第4代產(chǎn)品。同時,Qorvo還提供豐富的產(chǎn)品系列,以滿足不同應用場景所需:

UJ系列

開關(guān)速度較慢,非常適合替代現(xiàn)有的非開爾文封裝設計,如TO247-3L、D2PAK3L等。

UF系列

具有更快的開關(guān)速度,適用于高開關(guān)頻率、高效率和高功率密度應用。

UG系列

有兩個柵極引腳,分別用于SiC JFET和Si MOSFET。SiC JFET柵極引腳可實現(xiàn)非常寬的開關(guān)速度可控性。其目標應用是具有非常高的電流和相對較慢的dv/dt(<20V/ns)的場景,如電路保護等。

C/SC系列

即并排共源共柵或堆疊共源共柵——字母“C”表示共源共柵結(jié)構(gòu)并排封裝了Si低壓MOSFET和SiC高壓JFET;字母“SC”表示共源共柵結(jié)構(gòu)在SiC高壓JFET芯片的頂部連接了一個Si低壓MOSFET芯片,因此稱為堆疊芯片。

E1B模塊

采用行業(yè)標準模塊封裝,與許多供應商產(chǎn)品引腳兼容,適合于ZVS軟開關(guān)應用,如相移全橋、LLC等。

本文小結(jié)

在功率半導體領域,從Si向SiC技術(shù)過渡已經(jīng)是大勢所趨,對此大家已經(jīng)形成了共識。不過,如何讓這個過程更“絲滑”,以盡可能少的成本從SiC身上獲得盡可能大的收益——對于這個問題,不同的廠商則有自己不同的高招兒。

對此,Qorvo給出的解決方案非常獨特而巧妙,通過Si MOSFET + SiC JFET的共源共柵的架構(gòu),彌補了SiC MOSFET的性能短板,并與標準的硅基器件的柵極驅(qū)動器兼容,能夠有效加速SiC器件設計導入的進程。

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